ANNEALSYS快速熱化學(xué)氣相沉積系統MC-050

帶燈加熱的直接液體噴射汽化器使 MC-050成為一種獨特的機器，具有像集群工具一樣的多工藝能力，但在一個(gè)單一的工藝室內。

Annealsys MC-050系統是為滿(mǎn)足研發(fā)單位的要求而開(kāi)發(fā)的2英寸DLI-CVD/DLI-ALD反應器。

紅外燈爐與直接液體注入蒸發(fā)器相結合，在同一工藝室內提供獨特的多工藝能力：CVD、ALD、MOCVD、RTP 和 RTCVD。

直接液體注入 (DLI) 蒸發(fā)器可控制前體流量，并允許使用低蒸氣壓和稀釋的化學(xué)前體。與旁通閥相關(guān)的前體蒸汽流的快速切換為納米層壓板的沉積提供了界面控制。

MC-050是使用廣泛的固體和液體有機金屬前體開(kāi)發(fā)新材料和納米層壓材料的機器。

MC-050 可以使用廣泛的有機金屬前體進(jìn)行化學(xué)氣相沉積和原子層沉積工藝，同時(shí)提供原位退火功能。

• 氣體混合能力與質(zhì)量流量控制器
• 6個(gè)汽化器
• 手套箱裝載選項
• 可選擇高真空能力

MC-050可配備6個(gè)直接液體注入蒸發(fā)器和兩個(gè)用于高蒸氣壓前體的起泡器。

• 高溫計溫度控制
• 粗真空泵、渦輪泵
• 手套箱接口和手套箱
• 遠程等離子
• 臭氧發(fā)生器

• 基板尺寸：直徑可達2英寸
• 溫度范圍：室溫至 1100°C
• 電壓：3x400V+N+Gr/3x220V+Gr
• 功率：21千瓦
• 水：2至4巴，壓降1巴，8升/分鐘
• 壓縮空氣：6巴（閥門(mén)驅動(dòng)）
• 真空范圍：大氣壓至 10-3 Torr
• 產(chǎn)地：法國

MC-050提供了廣泛的新材料開(kāi)發(fā)能力，包括單金屬氧化物和多金屬氧化物以及過(guò)渡金屬●二硫化物 (TMD) 和其他二維材料。

• 簡(jiǎn)單和多金屬氧化物
• 金屬、氮化物和合金
• III-V，寬帶隙半導體
• 二維材料：石墨烯、氮化硼、MoS2、WS2、MoSe2、WSe2 ...
• ETC